导读：光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备，根据晶瑞电材的集成电路制造用高端光刻胶研发项目信息，设备及安装费占总投资额的69%，而光刻机就占设备及安装费的44%。
2、2020年全球光刻机销量同比增长16.7%，以中低端产品为主
目前，全球光刻机市场的集中度极高，前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示，2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。
光刻机随着光刻技术的更迭，已从最初的g-line，i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。2020年，全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主，合计达264台，占比约65%;而在高端光刻机-EUV的销量为31台，占比约19%。
3、荷兰ASML公司占全球光刻机龙头地位
从TOP3企业的竞争格局来看，2020年，荷兰ASML公司占比62%，出货量达到258台，力压尼康和佳能：
同时，从销售额来看，由于当前仅有荷兰ASML公司销售高端光刻机-EUV(售价最高)，因此，ASML仍占据市场龙头地位，市场份额达91%。
